工艺玻璃

等离子体增强气相沉积真空镀膜厂家真空镀膜

发布时间:2023/5/31 17:00:51   

真空镀膜的运作原理:物理相沉积(PhysicalVaporDeposition,PVD)技术表示在真空条件下,采用物理方法,将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。

真空蒸发镀膜在真空环境下加热镀膜材料,使它在极短时间内蒸发,蒸发了的镀膜材料分子沉积在塑料表面上形成镀膜层。此法简单便利、操作容易、成膜速度快、效率高,是薄膜真空制备中较为使用的技术,但薄膜与基体结合较差,工艺重复性不好,只能蒸发铝这样的低熔点金属。

磁控溅射镀膜是在真空中充入惰性气体,并在塑料基体和金属靶之间加上高压直流电,由辉光放电产生的电子激发惰性气体,产生等离子体,等离子体将金属靶材的原子击出,沉积在塑料基体上。由于溅射原子能量比蒸发原子能量高1~2个数量级,高能量的溅射原子沉积在基体时转换的能量多,甚至可发生部分注入现象,同时溅射成膜过程中,基体始终在等离子区中被清洗,因此溅射镀膜与塑料表面的附着力要比蒸发镀膜好,膜层致密、均匀,如配合适当的工件转动,可在复杂表面上获得较均匀的镀层离子镀膜是蒸发工艺与溅射技术的结合,它是在镀膜的同时采用荷能离子轰击工件表面和膜层,使得镀膜层和基体结合力好,不易脱落。由于金属原子的能量低于蒸镀时的能量,即使是耐热性较差的塑料,在其表面也可生成稳定性良好的金属薄膜

塑料作为镀膜基体材料的特殊性

性塑料的种类很多,并非所有的都可以进行真空镀膜,有的与金属层的结合力很差,没有实用价值,有的与金属镀层的某些物理性质如膨胀系数相差过大,在高温差环境中难以保证其使用性能,所以真空镀膜时,与金属、玻璃等无机物相比,作为基体材料的塑料具有一定的特殊性。



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